업계 최초로 차세대 D램 제조에 High NA EUV 도입전영현 "넥스트 AI 위한 기술 기반 마련해 나갈 것"서울 서초구 삼성전자 서초사옥의 모습. 2026.4.30 ⓒ 뉴스1 DB관련 키워드삼성전자ASML포토마스크박기호 기자 에쓰오일, 사무직 신입사원 채용…14일까지 온라인 접수OCI, 전북대학교와 반도체 소재 R&D 산학협력 추진관련 기사SK하이닉스, 2028년 D램 공정에 High NA EUV 적용윤 대통령, 금주 이재용·최태원과 네덜란드 순방…'반도체 세일즈' 나선다"반도체 공급망에서 中 배제돼도 글로벌 시장 끄떡없다"반도체 생산 日보다 4.5배 많은데…소재·장비 절반은 '외산'