업계 최초로 차세대 D램 제조에 High NA EUV 도입전영현 "넥스트 AI 위한 기술 기반 마련해 나갈 것"서울 서초구 삼성전자 서초사옥의 모습. 2026.4.30 ⓒ 뉴스1 DB관련 키워드삼성전자ASML포토마스크박기호 기자 SK하이닉스, 2028년 D램 공정에 High NA EUV 적용대미 1호 투자 프로젝트 '발전'…가스터빈·전력기기·건설 '미소'관련 기사SK하이닉스, 2028년 D램 공정에 High NA EUV 적용