베벌리, 매사추세츠, 2026년 9월 8일 /PRNewswire/ -- 반도체 산업용 핵심 이온 주입 솔루션의 선도적인 공급업체인 액셀리스 테크놀로지스(Axcelis Technologies, Inc.)(Nasdaq: ACLS)는 오늘 한국 경기도 평택에 신규 이온 주입 장비 제조시설을 건설해 글로벌 제조 인프라에 미화 3500만 달러를 투자할 계획이라고 발표했다.

액셀리스의 러셀 로우(Russell Low) 사장 겸 최고경영자(CEO)는 "이번 투자는 글로벌 대량생산 제조 인프라를 강화하고 전 세계 고객에게 서비스를 제공하는 데 필요한 역량을 확대하려는 액셀리스의 지속적인 의지를 반영한다. 이온 주입기는 반도체 전공정에서 가장 중요한 장비 중 하나다. 한국에서 이미 구축한 사업 기반을 바탕으로 평택 신규 시설은 증가하는 글로벌 반도체 수요에 대응하는 당사의 역량을 한층 강화할 것이다"라고 말했다.

평택 부지는 총 연면적 약 20만 제곱피트 규모로 조성될 예정이다. 제조센터는 약 50년에 걸친 반도체 장비 분야 경험을 바탕으로 린 생산(lean production) 환경을 구현하도록 설계된다. 평택 시설에는 물류창고, 클래스 1000 및 클래스 10000 클린룸, 교육센터가 통합되어 고객의 요구에 신속하고 유연하게 대응할 수 있게 된다.

이번 글로벌 제조 역량 확대의 일환으로 액셀리스의 로버트 마호니(Robert Mahoney) 글로벌 운영 총괄 수석 부사장은 지난주 워싱턴 D.C.에서 산업통상자원부(Ministry of Trade, Industry and Resources, MOTIR) 및 대한무역투자진흥공사(Korea Trade-Investment Promotion Agency, KOTRA) 관계자들과 함께 투자신고식에 참석했다. 착공식은 2026년 10월 20일 개최될 예정이다. 신규 제조 시설의 생산 개시는 2028년 하반기로 예정되어 있다.

액셀리스 소개
매사추세츠주 베벌리에 본사를 둔 액셀리스(Nasdaq: ACLS)는 약 50년 동안 반도체 산업에 혁신적이고 생산성이 높은 솔루션을 제공해 왔다. 액셀리스는 IC 제조 공정에서 가장 핵심적인 공정 중 하나인 이온 주입 시스템의 설계, 제조 및 전체 수명주기 지원을 통해 핵심 공정 애플리케이션을 개발하는 데 주력하고 있다. 액셀리스에 관한 자세한 내용은 www.axcelis.com에서 확인할 수 있다.

면책 조항:
본 보도자료에 포함된 내용 중 이미 알려진 역사적 사실에 해당하지 않는 진술은 미래예측진술이며, 1995년 사적증권소송개혁법(Private Securities Litigation Reform Act of 1995)에 따라 마련된 면책조항의 적용을 받는다. 이러한 진술은 경영진의 현재 예상에 근거한 것으로 주의해서 해석해야 한다. 이러한 진술에는 다양한 위험과 불확실성이 수반되며, 이로 인해 실제 결과가 미래예측진술에서 제시된 내용과 상당히 달라질 수 있다. 여기에는 당사가 미국 증권거래위원회(Securities and Exchange Commission, SEC)에 제출하거나 제공한 문서에 기술된 위험 및 불확실성이 포함되며, 특히 당사의 가장 최근 Form 10-K 연차보고서와 이후 SEC에 제출한 기타 문서에 기술된 위험요인이 포함된다. 회사는 본 보도자료에 포함된 정보 또는 진술을 업데이트할 어떠한 의무도 부담하지 않는다.

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