KAIST, 유독물질 뺀 초고해상도 QLED 신기술 개발

초고해상도 양자점 픽셀 형성 신기술, 양자점 손상돼도 쉽게 복구

본문 이미지 - KAIST 연구팀이 제시된 공정을 통해 제작된 다양한 패턴.(KAIST 제공)/뉴스1
KAIST 연구팀이 제시된 공정을 통해 제작된 다양한 패턴.(KAIST 제공)/뉴스1

본문 이미지 - KAIST 신소재공학과 조힘찬 교수(왼쪽)와 이재환 석사과정
KAIST 신소재공학과 조힘찬 교수(왼쪽)와 이재환 석사과정

대표이사/발행인 : 이영섭

|

편집인 : 채원배

|

편집국장 : 김기성

|

주소 : 서울시 종로구 종로 47 (공평동,SC빌딩17층)

|

사업자등록번호 : 101-86-62870

|

고충처리인 : 김성환

|

청소년보호정책 책임자 : 허정현

|

통신판매업신고 : 서울종로 0676호

|

등록일 : 2011. 05. 26

|

제호 : 뉴스1코리아(읽기: 뉴스원코리아)

|

대표 전화 : 02-397-7000

|

대표 이메일 : webmaster@news1.kr

Copyright ⓒ 뉴스1. All rights reserved. 무단 사용 및 재배포, AI학습 활용 금지.