단일 UV-오존 처리로 5nm 이하 초박막 게이트 구현복잡한 증착 공정 없이 비용 절감…3D 적층 메모리 파급 예고충남대학교 신소재공학과 최민섭 교수, 성균관대 유원종, 강보석 교수 및_연구피규어. (충남대 제공. 재판매 및 DB금지) 2025.11.12/뉴스1관련 키워드나노산화막플로팅 게이트UV-오존 처리