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특허청 ‘한·중·일 디자인포럼’ 개최…디자인 창작·보호 환경조성

(대전ㆍ충남=뉴스1) 박찬수 기자 | 2022-07-28 09:37 송고
© 뉴스1
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특허청이 8월 1일 오후 2시부터 ‘2022년 한·중·일 디자인포럼’을 온라인으로 개최한다.

28일 특허청에 따르면 올해로 11회째인 이번 포럼 주제는 ‘국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호’다.
이번 포럼에서는 헤이그 협정으로 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라, 3국(한·중·일)에 디자인 동시 출원 시 알아두어야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다.
  
한·중·일 산업계 연사를 초청해 메타버스나 NFT 등 신기술과 디자인, 웹 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등도 다룰 예정이다.

온라인 포럼은 관련 링크에서 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며, 한국·중국·일본어가 동시통역으로 제공된다.
    
특허청 목성호 상표디자인심사국장은 “최근 중국·일본의 디자인 관련 법·제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회이므로, 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다”고 말했다.


pcs4200@hanmail.net

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