2021년 한·중·일 상표·디자인포럼 개최 포스터© 뉴스1

특허청은 오는 30일 ‘2021년 한·중·일 상표·디자인 포럼’을 온라인으로 개최한다고 13일 밝혔다.

그동안 별도로 운영되던 한·중·일 상표전문가회의와 디자인포럼을 처음으로 통합 개최, 동북아를 대표하는 3국의 상표·디자인 정책의 흐름을 한눈에 파악할 수 있도록 했다.이날 ‘디지털 경제하의 상표와 디자인 보호’를 주제로 디지털 경제를 대비하는 각국의 상표·디자인 제도 변화와 운영전략을 살펴본다. 실시간 질의·응답시간을 통해 300명의 한·중·일 사용자들과 각 특허청이 직접 소통하는 기회도 갖는다.

싱가포르 지식재산청의 샤먀인 우(Sharmaine Wu) 국장과 국제상표협회(INTA) 조윤경 변리사도 초청, 아시아 지식재산 시장의 전략변화에 대해서도 알아본다.

특허청 목성호 상표디자인심사국장은 “최근 일본의 상표법과 중국의 전리법 개정에 따른 상표·디자인 전략을 모색할 좋은 기회이므로 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다”고 밝혔다.


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