'삼성 반도체' 기술 중국에 유출 前 부장에게 징역 20년 구형

(서울=뉴스1) 노선웅 서한샘 기자 = 검찰이 삼성전자의 반도체 핵심 기술을 중국 등 해외 경쟁기업으로 유출한 혐의를 받는 전 삼성전자 부장에게 징역 20년을 선고해달라고 재판부에 요청했다.

검찰은 12일 서울중앙지법 형사25부(부장판사 지귀연)가 심리한 전 삼성전자 기술팀 부장 김 모 씨와 김 씨가 설립한 반도체 생산 장비 협력업체 A 사의 엔지니어 등 5명의 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 혐의 결심 공판에서 김 씨에게 징역 20년을 구형했다. 또 A 사의 엔지니어들에게는 각각 징역 2년~10년을 구형했다.

검찰은 "반도체 산업은 대한민국 경제의 근간을 이루는 중요한 사업으로 10년 연속 수출 1위로 국가 경제에 큰 영향을 미친다"며 "반도체는 4차 산업 핵심 부품으로 국가 경제의 버팀목이고 국가경쟁력 확보를 위해 기술 유출 방지가 중요하다"고 강조했다.

그러면서 "기술을 유출해 삼성전자는 최소 연간 4조 5000억 원에서 최대 10조5000억 원의 막대한 피해가 예상된다"며 "사익을 추구하기 위해 중요 기술 자료를 무단으로 유출하고 사용했다. 중국으로 출국하기 전 휴대전화를 새로 구매하고 중요 자료를 빼돌리거나 업로드하는 등 계획적인 범행을 저질렀다"고 지적했다.

김 씨는 최후 진술에서 "일반 기술이라 생각했고 투자자들에게 홍보 자료로만 사용하기로 해 그런 취지로 자료를 다 함께 준비한 것"이라며 "이런 일이 없었으면 맘 편하게 살았을 후배들과 가족들에게 진심으로 미안하다"고 밝혔다.

나머지 피고인 측도 사죄의 뜻을 밝히면서도 홍보자료를 만들라는 상급자의 지시에 따랐을 뿐 기술 유출 의도는 없었다며 선처를 호소했다.

김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 반도체업체인 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 넘긴 혐의를 받는다.

김 씨는 중국에 D램 제조의 핵심 장비인 ALD(반도체 증착장비) 개발에 성공한 회사가 없다는 점을 노려 중국에 직접 새로운 반도체 생산 장비업체 A 사를 설립하기도 했다.

이후 김 씨는 A 사의 엔지니어 등 나머지 피고인들과 함께 A 사의 첨단기술인 반도체 증착장비 설계 기술자료를 해외 경쟁기업에 무단 유출한 혐의도 있다.

검찰은 이들이 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 기술을 유출하고 그 대가로 수백억 원대 금품을 수수한 것으로 보고 김 씨 등을 구속기소 했다.

이들의 판결 선고는 내년 1월 22일 오후 2시로 예정됐다.

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