김현규 전북대 박사과정생, 차세대 3D DRAM 연구 '우수'

(전주=뉴스1) 임충식 기자 = 전북대학교는 김현규 전자정보공학부 박사과정생이 IEEE가 주관하는 국제학술대회(IEEE TENCON 2025)에서 우수논문상을 수상했다고 2일 밝혔다.

IEEE는 전 세계 160여 개국, 40만 명 이상의 회원을 보유한 전기·전자 분야의 가장 권위 있는 학술단체며, IEEE TENCON은 매년 20여 개국 이상에서 수백 편의 논문이 발표되는 국제 학술대회다.

김현규 박사과정생은 이번 학술대회에서 기존 DRAM 메모리의 구조적 한계를 극복하고 고집적·저전력·고속 동작이 가능한 차세대 1T 3D DRAM에 대한 연구결과를 발표했다.

연구를 통해 제안한 소자는 커패시터가 없는 1T 구조로 우수한 데이터 유지 특성, 높은 집적도 및 효율적인 열 방출 성능을 가지고 있다. 또 금속 실리사이드 공정을 통한 Schottky contact과 ONO 절연막 두께 조절을 통해 Charge Trap 기반 메모리에서도 고속·저전력 동작이 가능하다는 것을 입증했다.

이번 연구는 기존 DRAM의 집적 한계와 공정 복잡성을 극복할 수 있는 새로운 메모리 아키텍처를 제시한 것으로, 향후 AI 및 고성능 컴퓨팅용 차세대 반도체 기술 개발의 핵심 기반이 될 것으로 기대된다.

김현규 학생은 "차세대 메모리 반도체의 집적 한계를 극복하고, AI·고성능 컴퓨팅 등 다양한 분야에 적용 가능한 새로운 메모리 구조를 제시한 점에서 의미가 크다"면서 "전북대 반도체 연구팀이 세계 수준의 기술 경쟁력을 갖추고 있음을 보여준 사례다"고 말했다.

94chung@news1.kr