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특허청은 30일 오후 정부대전청사 특허청 화상회의실에서 ‘제21차 한·중·일 특허청장회의’를 화상으로 개최했다.

이날 한중일 3국은 한 해 동안 추진된 지재권 분야별 협력내용을 점검하고, 향후 협력방향을 논의했다. 한·중·일 특허청장들은 앞으로 탄소중립 분야에서 3국 협력을 구체화해 나가기로 합의했다.
 
지난 20년간 3국 특허청은 특허, 디자인, 교육, 심판, 상표, 정보화 등 6개 분야별로 전문가회의를 개최해 교류를 이어오면서, 3국 지식재산 제도의 균형 있는 발전을 이루어 왔다. 그 결과 전 세계에 출원된 지식재산권 중 한·중·일 3국이 차지하는 비율은 2001년 32%에서 2020년에는 75%로 증가했다. 그 중 특허출원은 42%에서 62%로, 상표출원은 21%에서 73%로 증가했다. 

올해 회의는 한·중·일 특허청이 ‘탄소중립’이라는 공동 목표 달성을 위한 3국 협력을 추진하기로 약속했다는 점에서 의미가 크다. 이 협력과제는 탄소중립 달성을 위해서는 관련 기술을 지재권으로 보호해 기술개발을 촉진해야 한다는 인식에서 시작됐다.

한국 특허청은 탄소중립 등 기후환경 개선을 위해서는 국가 간 연대가 필수적이고, 이미 중국과 일본에서도 탄소중립 목표를 구체화한 바가 있어 이제는 실질적인 정책대응이 필요하다는 점을 바탕으로 양 특허청을 설득했고, 청장회담에서 합의를 이끌어내는 데 성공했다. 탄소중립과 관련한 구체적인 협력범위와 내용에 대해서는 한중일 특허청이 모두 참여하는 분야별 전문가회의를 통해 논의해 나가기로 했다.

김용래 특허청장은 “그동안 한중일 특허청은 서로를 벤치마킹하면서 지재권 제도를 발전시켜왔는데, 앞으로는 지금까지의 협력성과를 기반으로 3국 특허청이 탄소중립 기술의 발전과 확산에 기여할 수 있을 것”이라고 밝혔다.

이어 “탄소중립 등 3국의 지재권 협력이 선언에 그치지 않고 실질적으로 성과를 거둘 수 있도록 중국, 일본과 지속적으로 협력해 나가겠다”고 강조했다.


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